ዝቅተኛ-ደረጃ እና ከፍተኛ-ሸክላ ኦክሳይድ የወርቅ ማዕድን ክምር ላይ ምርምር

1. መግቢያ

በወርቅ ማዕድን ማውጫ መስክ፣ ዝቅተኛ ደረጃ እና ከፍተኛ ደረጃ ያላቸው ኦክሳይድ የተደረገባቸው የወርቅ ማዕድናት አጠቃቀም ከፍተኛ ደረጃ ያላቸው የወርቅ ሀብቶች በመሟሟታቸው ምክንያት በጣም አስፈላጊ እየሆነ መጥቷል። እነዚህ ዓይነቶች ማዕድናት በዝቅተኛ የወርቅ ይዘት እና ከፍተኛ የሸክላ ማዕድን ይዘት ተለይተው ይታወቃሉ፣ ይህም ለባህላዊ የቤኔፊሺያ ዘዴዎች ከፍተኛ ተግዳሮቶችን ያስከትላል። የክምር ማፍሰስ እንደዚህ ያሉ ማዕድናትን ለማከም ወጪ ቆጣቢ እና ተግባራዊ አቀራረብ ሆኖ ብቅ ብሏል፣ ይህም ወርቅን ከከፍተኛ መጠን ካላቸው ዝቅተኛ ደረጃ ካላቸው ቁሳቁሶች ማውጣት ያስችላል። ይህ ጽሑፍ ዝቅተኛ ደረጃ እና ከፍተኛ ደረጃ ካላቸው ኦክሳይድ የተደረገባቸው የወርቅ ማዕድናት ክምር ማፍሰስን በተመለከተ አጠቃላይ ጥናት ያቀርባል ፣ ይህም የማለስለስ ሂደቱን ለማመቻቸት እና የወርቅ መልሶ ማግኛ መጠኖችን ለማሻሻል ነው።

2. ዝቅተኛ-ደረጃ እና ከፍተኛ-ሸክላ ኦክሳይድ የወርቅ ማዕድን ባህሪያት

ዝቅተኛ ደረጃ ኦክሳይድ የተደረገባቸው የወርቅ ማዕድን ማውጫዎች ከ2 g/t በታች የወርቅ ማዕድን አላቸው፣ ይህም ኢኮኖሚያዊ ምርታቸው የበለጠ አስቸጋሪ ያደርገዋል። በነዚህ ማዕድናት ውስጥ ያለው ከፍተኛ የሸክላ ይዘት እንደ ደካማ የመተላለፊያነት, የመጎሳቆል እና ከፍተኛ የሊኪንግ ሪጀንቶችን መጠቀምን የመሳሰሉ ችግሮችን ሊያስከትል ይችላል. እንደ ካኦሊኒት፣ ሞንሞሪሎኒት እና ኢላይት ያሉ የሸክላ ማዕድኖች የወርቅ ionዎችን በማስተዋወቅ እና በማፍሰስ ሂደት ውስጥ ጣልቃ ሊገቡ ይችላሉ። በተጨማሪም, የሸክላ ማዕድናት ጥሩው የሸክላ ማዕድናት መጠን በቡድኑ መፍትሔው እና በወርቅ በተሸከሙ ማዕድናት መካከል ያለውን ግንኙነት በመቀነስ በኦር ክምር ውስጥ ሊፈጥር ይችላል.

3. የሙከራ ዘዴ

3.1 የኦር ናሙና እና ባህሪ

የዝቅተኛ ደረጃ እና ከፍተኛ የሸክላ ኦክሳይድ የወርቅ ማዕድን ተወካይ ናሙና ከማዕድን ቦታ ተሰብስቧል. የማዕድን ናሙናው በኬሚካላዊ ቅንጅቱ፣ በማዕድን ጥናት እና በአካላዊ ባህሪው ተተነተነ። የኤሌሜንታሪ ስብጥርን ለመወሰን የኤክስሬይ ፍሎረሰንስ (XRF) ጥቅም ላይ የዋለ ሲሆን ኤክስሬይ ዲፍራክሽን (XRD) የማዕድን ደረጃዎችን ለመለየት ጥቅም ላይ ውሏል. የቅንጣት መጠን ትንተና የተካሄደው የማዕድን ቅንጣቶችን መጠን ስርጭት ለመረዳት በወንፊት ሻወር በመጠቀም ነው።

3.2 የዓምድ መለቀቅ ሙከራዎች

የክምር ማጽጃ ሂደቱን ለማስመሰል የአምድ ማጽጃ ሙከራዎች ተካሂደዋል። የማዕድን ናሙናው ተጨፍጭፎ በተለያዩ የቅንጣት መጠኖች ተሸፍኗል። 10 ሴ.ሜ ዲያሜትር እና 100 ሴ.ሜ ቁመት ያላቸው አምዶች በማዕድን ናሙናዎች ተሞልተዋል። የተለያዩ መለኪያዎችን ማለትም የማዕድን ቅንጣት መጠን፣ የካልሲየም ኦክሳይድ (CaO) መጠን፣ የሶዲየም ሲያናይድ (NaCN) ክምችት በማቅለጫ መፍትሄው ውስጥ እና በማቅለጫ ጊዜ በወርቅ ማጽጃ መጠን ላይ ያላቸውን ተጽእኖ ለመመርመር ተከታታይ ሙከራዎች ተደርገዋል።

3.3 የሂደት መለኪያዎችን ማመቻቸት

የሂደቱ መመዘኛዎች በተከታታይ ነጠላ-ደረጃ ሙከራዎች ተሻሽለዋል። የማዕድን ቅንጣቢው መጠን ከ -20 ሚሜ እስከ -5 ሚሜ ይለያያል, እና የ CaO መጠን ከ 1% ወደ 5% የክብደት መጠን ተስተካክሏል. በሊኬንግ መፍትሄ ውስጥ ያለው የ NaCN ትኩረት ከ 0.05% ወደ 0.2% ተቀይሯል, እና የማፍሰሻ ጊዜው ከ 10 ቀናት ወደ 30 ቀናት ተጨምሯል. በአቶሚክ መምጠጥ ስፔክትሮሜትሪ (ኤኤኤስ) በመጠቀም በወርቃማው ውስጥ ያለውን የወርቅ ይዘት በመተንተን የወርቅ ማፍሰሻ መጠኑ በየጊዜው በየተወሰነ ጊዜ ክትትል ተደርጓል።

4. ውጤቶች እና ውይይቶች

4.1 የኦር ቅንጣት መጠን ውጤት

ውጤቶቹ እንደሚያሳዩት የማዕድን ቅንጣት መጠንን መቀነስ የወርቅ ማፍሰስን መጠን በእጅጉ አሻሽሏል። የማዕድን ቁፋሮው መጠን -5 ሚሜ ሲሆን, ከ 85 ቀናት በኋላ የወርቅ ማቅለጫው መጠን 20% ደርሷል, ለ -20 ሚሜ ቅንጣት መጠን, የመለጠጥ መጠኑ 60% ብቻ ነበር. የትንሹ ቅንጣት መጠን በማዕድኑ ላይ ያለውን ቦታ ጨምሯል, በሊች መፍትሄ እና በወርቅ የተሸከሙ ማዕድናት መካከል ያለውን ግንኙነት በማመቻቸት. ይሁን እንጂ እጅግ በጣም ጥሩ የሆኑ ጥቃቅን መጠኖች እንደ ደካማ የመተጣጠፍ ችሎታ እና የሸክላ ማዕድን ጣልቃገብነት ወደመሳሰሉ ችግሮች ሊያመራ ይችላል.

4.2 የ CaO መጠን ተጽእኖ

CaOን ወደ ማዕድን ክምር ማከል የማዕድን ውህዱን ለማሻሻል እና የሊች መፍትሄን ፒኤች እሴት ማስተካከል ይችላል። በጣም ጥሩው የ CaO መጠን ከኦርጅኑ ብዛት 3% ሆኖ ተገኝቷል። በዚህ መጠን፣ የወርቅ ማፍሰሻ መጠኑ ከፍተኛ ነበር። ዝቅተኛ የCaO መጠን በቂ ያልሆነ የፒኤች ማስተካከያ እና ደካማ የመተጣጠፍ ችሎታን አስከትሏል፣ ከፍተኛ መጠን ያለው የመድኃኒት መጠን ደግሞ ከመጠን በላይ የመጠጣት ሪጀንቶችን መጠቀም እና ሊከሰቱ የሚችሉ የአካባቢ ችግሮችን ያስከትላል።

4.3 የ NaCN ማጎሪያ ተጽእኖ

በማጣሪያ መፍትሄው ውስጥ ያለው የNaCN ክምችት በወርቅ የማጣሪያ መጠን ላይ ከፍተኛ ተጽዕኖ አሳድሯል። የNaCN ክምችት ከ0.05% ወደ 0.15% ሲጨምር፣ የወርቅ የማጣሪያ መጠን ከ70% ወደ 90% ጨምሯል። ሆኖም፣ የNaCN ክምችትን ወደ 0.2% ማሳደግ በማፍሰስ መጠን ላይ ጉልህ መሻሻል አላመጣም እንዲሁም ከሳይናይድ አጠቃቀም ጋር የተያያዙ ወጪዎችን እና የአካባቢ አደጋዎችን ጨምሯል።

4.4 የእረፍት ጊዜ

የወርቅ ማፍሰሻ መጠን በማራዘሚያ ጊዜ ጨምሯል። ከ25 ቀናት የፈሳሽ ልቅሶ በኋላ፣ የወርቅ ልገሳ መጠኑ ከፍተኛ ደረጃ ላይ መድረሱን የሚያመለክተው አብዛኛው የሚወጣ ወርቅ መሟሟቱን ነው። ከዚህ ነጥብ በላይ የፈሳሽ ጊዜን ማራዘም በሊች መጠን ላይ ከፍተኛ ጭማሪ አላመጣም ነገር ግን የሂደቱን አጠቃላይ ወጪ ጨምሯል።

5. መደምደሚያ

ይህ ጥናት እንደሚያሳየው ክምር መቆንጠጥ ዝቅተኛ ደረጃ እና ከፍተኛ የሸክላ ኦክሳይድ የወርቅ ማዕድን ለማከም አዋጭ ዘዴ ነው። የሂደቱን መመዘኛዎች በማመቻቸት፣ የኦሬን ቅንጣት መጠን፣ የCaO መጠን፣ የናሲኤን ትኩረት እና የማፍሰሻ ጊዜን ጨምሮ እስከ 90% የሚደርስ ከፍተኛ የወርቅ ማምረቻ ፍጥነት ማግኘት ይቻላል። በጣም ጥሩዎቹ ሁኔታዎች እንደሚከተለው ተወስነዋል-የኦርን ቅንጣት -5 ሚሜ ፣ የ CaO መጠን 3% ፣ የ NaCN መጠን 0.15% በሊች መፍትሄ ውስጥ እና የ 25 ቀናት የመልቀቂያ ጊዜ። እነዚህ ግኝቶች ወርቅን ከዝቅተኛ ደረጃ እና ከከፍተኛ ሸክላ ኦክሳይድ የያዙ የወርቅ ማዕድን በማውጣት ለወርቅ ማዕድን ኢንዱስትሪው ዘላቂ ልማት የሚያበረክተውን የቁልል ሌይንግ ኢንደስትሪ አተገባበር ጠቃሚ ግንዛቤዎችን ይሰጣሉ።