AuCarb™ 시리즈 활성탄 제품이 다양한 금 처리 기술에 미치는 영향

힙 침출

저품위 표면 광물과 폐석은 다음과 같은 용도로 사용될 수 있습니다. 힙 침출이 방법을 사용하면 최대 85%의 회수율을 달성할 수 있습니다. 아우카르브^TMAC 시리즈.

컬럼 내 탄소(CIC)

유출수, 수원에 용해된 금, 월류수, 광미댐에서 되돌아오는 물 등 금이 이미 용액 상태로 존재하는 경우에 적합합니다. 활성탄 직렬 또는 병렬 흐름 방식의 컬럼은 충전층 또는 유동층(총 부유 고형물 함량이 과도한 경우)을 이용하여 금을 포집하는 데 사용됩니다. 충전층은 금을 얻을 수 있습니다. 회복 효율은 95% 이상이며, 유동층 반응기에서는 단계별로 50~70%의 효율이 관찰됩니다.

펄프 내 탄소(CIP)

활성화 탄소 분쇄, 분쇄 및 침출된 펄프를 펄프(시아노화 광석 슬러리)에 직접 첨가합니다. 활성탄 이는 반회분식 흡착기 시리즈에서 펄프와 역방향으로 흐릅니다. 제품의 경도가 매우 높기 때문에, 아우카르브^TMAC이동, 교반 및 활성화 과정에서 마모가 적습니다. 높은 흡착률과 용량을 나타냅니다. 아우카르브^TMAC 시리즈 최대 98%의 금 회수율을 허용합니다.

탄소 침출(CIL)

활성탄은 시안화 공정이 진행되는 용기에 직접 첨가됩니다. 흡착 아우카르브^TMAC 시리즈 기존 시안화법으로는 금 회수율이 50%에 불과한 반면, 이 방법은 97~98%의 금 회수율을 달성할 수 있습니다. 자연적으로 존재하는 탄소는 활성탄과 금에 대한 흡착 경쟁을 합니다. 따라서 산화 처리 후, 활성탄이 믹서에서 광석과 접촉하는 동안 시안화 공정이 동시에 진행됩니다. 활성탄의 우수한 초기 흡착 속도는 금의 흡착 속도를 향상시킵니다. 아우카르브^TMAC 시리즈 금 회수와 관련된 방해 요소를 최소화합니다.임신한 강도들광석 내의 "함유" 성분을 제거하여 침출 효율을 향상시킵니다.