적용 가능한 시나리오 : 힙 리치(Heap Leach), 간소화된 CIP 워크플로우.

타겟 고객: 생산 능력이 낮고, 원광석 금 함량이 낮으며, 비용 통제 요건이 매우 엄격한 보급형/저가형 애플리케이션 시나리오.

높은 요오드 함량 보장: 요오드가는 최대 ≥1100mg/g견고한 기초 흡착 기능을 보장합니다.

내마모성 설계: 혈소판 및 마모율이 현저히 낮고, 볼 경도가 매우 높은 것이 특징입니다. ≥ 98.5의 %.

물리적 지표: 겉보기 밀도는 엄격하게 제어됩니다. 0.40-0.50 g / ml총 회분 함량 ≤5 %수분 ≤10 %.

선택 조언: 이윤은 전액 고객에게 돌아가므로 조달 비용이 낮고 대량 소비가 필요한 프로젝트에 이상적인 선택입니다.

적용 가능한 시나리오 : 펄프 내 탄소 흡착법(CIP), 침출 내 탄소 흡착법(CIL), 컬럼 내 탄소 흡착법(CIC).

타겟 고객: 중간 규모의 생산 능력과 비교적 높은 금 함량을 가진 중견 사용자.

탁월한 기계적 강도: 혈소판 함량이 매우 낮다는 특징이 있습니다.≤5 %) 및 초저손실률(≤1.5 %볼팬 경도가 급격히 상승합니다. ≥ 99의 %기계적 마모로 인한 금 손실량을 획기적으로 줄입니다.

강력한 흡착 속도: K값은 다음과 같습니다. ≥26kg/tR값 적중 ≥ 50의 %탁월한 흡착 능력과 속도를 보여줍니다.

물리적 지표: 겉보기 밀도 0.48-0.55 g / ml사염화탄소 활성도(CTC) ≥ 50의 %.

선택 조언: 합리적인 가격에 매우 안정적인 성능을 제공하는 이 제품은 표준 CIP/CIL/CIC 회로 분야에서 업계의 최고 기준으로 자리매김하고 있습니다.

적용 가능한 시나리오 : 펄프 내 탄소 흡착법(CIP), 침출 내 탄소 흡착법(CIL), 컬럼 내 탄소 흡착법(CIC).

타겟 고객: 대규모 생산 능력, 높은 금 함량, 그리고 재료 마모 및 손실률에 극도로 민감한 고급 사용자.

향상된 흡착 성능: 흡착 용량(K 값)이 증가했습니다. ≥28kg/t그리고 흡착률(R값)이 향상되었습니다. ≥ 55의 %이는 금 추출 효율을 크게 향상시킵니다.

탁월한 내마모성: 탁월한 수준을 유지합니다 ≤5 % 혈소판 함량 및 ≤2 % 마모율이 매우 낮아 장시간의 강렬한 교반 중에도 입자 형태가 완벽하게 유지됩니다.

물리적 지표: 겉보기 밀도 0.45-0.55 g / ml사염화탄소 활성도(CTC)가 증가했습니다. ≥ 55의 %.

선택 조언: 톤당 탄소 소비량을 현저히 줄여주므로, 종합적인 운영 비용을 최대한 최적화하고자 하는 대규모 화학 공장에 이상적인 선택입니다.

적용 가능한 시나리오 : 펄프 내 탄소 흡착법(CIP), 침출 내 탄소 흡착법(CIL), 컬럼 내 탄소 흡착법(CIC).

타겟 고객: 최첨단 기술을 보유한 소수의 고객들로 구성된 특별 그룹(가장 엄격한 요구 사항을 갖고 있으며, 막대한 생산 능력, 매우 높은 금 함량, 그리고 최고의 회수율을 끊임없이 추구함).

비교할 수 없는 흡착력: 최고 수준의 흡착 용량(K 값)을 자랑합니다. ≥30kg/t) 및 매우 빠른 반응 속도(R 값) ≥ 60의 %).

최상급 순도 및 경도: 총 회분 함량 ≤3 %수분 ≤5 %경도 ≥ 99의 %부탄 활성도 최대 ≥23 %.

프로세스 최적화 보장: 완벽한 3D 형상으로 스크린 막힘 현상을 효과적으로 방지합니다. 낮은 압력 손실로 흡착 속도를 획기적으로 최적화하여 금 함량이 높은 광석 추출에도 매우 적합합니다.

선택 조언: 금 손실에 대해 무관용 정책을 고수하는 최고급 광산 대기업을 위해 특별히 설계되었으며, 브랜드의 탁월한 기술력을 훌륭하게 보여줍니다.